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互动平台“蹭”光刻机热点,苏大维格被深交所火速下发关注函
最后更新: 2024-05-09 00:54:24文/夏峰琳 编辑/徐喆
近期,光刻机相关概念股备受资本市场关注。9月14日,苏大维格(300331.SZ)在互动平台表示, “公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售,并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口。”随即点燃市场情绪,午后开盘股价迅速拉升,并实现20%涨停。
随后苏大维格做出澄清,表示公司出货并非如ASLM的EUV掩摸光刻机,而是激光直写光刻机。业内人士分析表示,激光直写光刻机可用于掩膜版的制造,芯片制造中的光刻机是极紫外光(EUV)作为光源的光刻机。
尽管同为“光刻机”,却谬之千里,上市公司在公开平台未能清晰表述导致股价异动,难免对市场存在误导。
9月15日,苏大维格收到深交所下发的关注函。不过,难挡投资者热情,虽低开6.43%,但盘中一度摸高至38.78元,涨幅达17.09%。随后震荡回调,截至收盘,报35元,上涨13.13%。
“光刻机”出货,公司股价20CM涨停
光刻机被业界誉为集成电路产业皇冠上的明珠,研发的技术门槛和资金门槛非常高。光刻机EUV(极紫外)光刻机、DUV(深紫外)光刻机。此外,更早也有i线和g线光刻机。上述均属于较为先进的半导体光刻机。除了半导体用,光刻机也用于面板、PCB(印刷电路板)的制造中。
随着芯片工艺的先进化,电路设计图日益精细和复杂,所需要的光刻精度也就越来越高,研发光刻机的技术要求、生产成本和生产难度都直线上升。迄今为止,世界上能自主研发和制造光刻机的厂商依然寥寥无几。
因而当苏大维格称,公司光刻机以实现向国内龙头芯片企业的销售,并已实现向日本、韩国、以色列等国家出口时,市场立刻被引爆,公司股价当日录得涨停板。
与此同时,也有投资者也追问:“公司光刻设备对比全世界同行业处于什么阶段?未来有没有和国内同行合作研发制造光刻机计划?”
对此,苏大维格也在互动平台表示,光刻机主要有两种类型。第一类是掩摸光刻机,如ASLM的EUV设备,好比“复印机”,把掩摸上的图形投射到硅片上,可用于各类芯片的批量生产,这类光刻机技术工艺和材料难度极高;第二类是无掩摸光刻机,也称直写光刻机,包括激光直写光刻机和电子束光刻机等,用于直接将数据转变成相关图形,好比“打印机”,可用于芯片/液晶掩摸、光模具及其他微结构的制备。
目前,公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机,其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率,在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小,部分应用领域离国际先进水平具有一定差距,需要持续的研发投入。
苏大维格进一步解释称,DUV和EUV在生产芯片过程中使用的掩摸板,需要直写光刻机机型进行制造。另据公司半年报,苏大维格光刻设备已实现向国内某芯片龙头企业实现销售,并向国内厂商提供应用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品。
财务数据显示,2023年上半年,苏大维格实现营收为7.88亿元,较上年同期下滑10.47%。归母净利润方面仅1217.69万元,因去年同期基数仅137.66万元,同比增幅达784.54%。
对此,深交所也要求苏大维格结合不同类型光刻设备的技术路线的差异,补充披露公司所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情况,并核实说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距,并进一步提示相关风险。
“纳米压印”实验室已实现10+nm
苏大维格在互动平台还提及“纳米压印”技术。在回复“纳米压印技术有没有替代EUV光刻机的可能性”时,苏大维格称:“根据相关资讯,佳能等国际厂商拟试图通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低成本的芯片量产。”
关于纳米压印技术能否替代EUV光刻机,中国豪宅研究院院长城市运营专家朱晓红向观察者网表示:“纳米压印技术在一定程度上可以替代传统光刻技术。该项技术可通过直接对待刻制表面施加力、压力或应力,将图案传导到硅芯片上,可实现微米和纳米级别的图形转移。目前,该技术在柔性显示、纳米光电子设备制造等领域已具备商业应用,但在集成电路和芯片制造领域的应用还处于初级阶段,仍需进一步完善和发展。”
与非网副主编夏珍在接受媒体对话时则表示:“纳米压印可潜在替代EUV、DUV。当DUV(技术)再往下走,日本厂商并没有选择EUV,而是采用了‘纳米压印’(Nanoimprint Lithography,NIL)技术,来开发新一代的设备。纳米压印技术和现在市场上的光刻技术有所不同。基于光学的曝光机,也就是我们常说的光刻机,从Reticle(掩膜版)到晶圆是4:1的缩小比例,而纳米压印技术下的Reticle选用特殊加工方法,从Reticle到晶圆是等比例的。这意味着只要Reticle能做到5nm,就能压印出5nm的东西。”
夏珍还进一步介绍称:“目前基于纳米压印技术的设备还没量产,处于量产评价阶段,但从实验室的角度来看,已经实现了10+nm,未来将进一步拓展至5nm。”
另外,苏大维格也表示:“纳米压印光刻领域,公司设备主要为自用,对外销售金额与直写光刻机相比较小;与此同时,公司也开发了投影扫描的光刻设备,拟应用于光伏电镀铜图形化领域,目前尚未实现销售。”
对此,深交所要求苏大维格说明:“公司纳米压印技术的具体用途、研发情况,以及在集成电路领域的布局情况,并充分提示相关风险。”
除此之外,深交所还要求苏大维格核实说明公司控股股东、实际控制人,董事、监事、高级管理人员及其直系亲属、持股5%以上股东近1个月买卖公司股票的情况,未来3个月内是否存在减持计划,自查并说明你公司是否存在主动迎合市场热点炒作公司股价、配合相关股东减持的情形。
本文系观察者网独家稿件,未经授权,不得转载。
- 责任编辑: 夏峰琳 
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